EUV极紫外光刻技术 三星7nm处理器2018年推出

或许7nm是目前手机处理器极限了...近日，三星宣布7nm和11nm半导体工艺，相关产品将在2018年推出。

三星在二季度的收入一举超越Intel，成为全球第一大半导体公司。这些年受惠于高通骁龙芯片、AMD Ryzen/Vega/Polaris的成功，三星的代工生意不仅风生水起、日进斗金，而且不在不知不觉中走在了制程工艺的最前列。今天，三星宣布，新加入了11nm LPP工艺，其实就是改良后的14nm LPP马甲，不过性能提升了15%，单位面积的功耗降低了10%。

这明显就是对打台积电12nm FinFET，只是二位都不老实，擅自混乱地给制程命名，也难怪这么多年都被Intel贬低，比如“三星10nm=Intel 14nm”。

三星表示，10nm用于旗舰手机，11nm用于中高端，形成差异化，预计2018年上半年在市场投放。

与此同时，三星也成为了市场上最先确认7nm的企业，其7nm LPP定于2018下半年量产，采用EUV极紫外光刻技术。

EUV虽然困难重重，但ASML已经开始出货定型的光刻机。三星也表示，从2014年开始，基于EUV处理了200000片晶圆，目前在256Mb SRAM（静态随机存储器）良率已经达到了80%。
关于11nm和7nm更进一步的细节，三星定于9月15日在东京举办的半导体会议上揭示，未来的技术路线图也会更新。